Individuelle DOE-Muster
DOE: Diffractive Optical Element
Von der Industrie über die Biotechnologie bis zur Bildverarbeitung – viele Branchen profitieren vom Einsatz diffraktiver optischer Elemente (kurz: DOE). Die Besonderheit der DOEs liegt in ihrer komplexen Oberflächenstruktur verborgen: An deren Mikrostruktur, einem optischen Gitter, lassen sich Lichtstrahlen beugen und somit gerichtet modulieren.
Diese Technik wird zwar vorrangig auf Laserstrahlen angewandt, eignet sich aber ebenso gut für andere Arten kohärenten Lichts. Weitere Vorzüge der DOEs bestehen in ihrem minimalen Gewicht sowie in ihrer flachen Form. Um all die Vorteile auszuschöpfen, empfehlen sich DOE-Muster, die passgenau auf den vorgesehenen Anwendungszweck zugeschnitten sind.
ixellence: Ihr Experte für DOE-Muster
Nur wenige Unternehmen verfügen über das Know-how, um solche DOE-Muster zu entwickeln – ixellence ist eines davon. Dabei kommt uns unsere langjährige Erfahrung und Forschung in der Bildverarbeitung zugute. Das dabei gewonnene Wissen lassen wir auch in die Zusammenarbeit mit Unternehmen, z.B. mit dem DOE-Hersteller HoloEye, einfließen.
Unser Spezialgebiet: Perfect Submaps
Wir sind insbesondere auf das Design von Perfect Submaps (PSMs) spezialisiert. PSMs zeichnen sich durch ihre lokale Eindeutigkeit aus, d.h. in einer PSM kommt jeder Ausschnitt der Größe u x v (Uniqueness-Window) nur einmal vor. Derartige Muster eignen sich insbesondere für stereoskopische DOEs, weshalb sie vor allem in der Messtechnik eingesetzt werden.
Anforderungen an optimale PSMs aus Sicht der Wellenoptik und Stereoskopie:
- Kleines Uniqueness-Window mit möglichst großer Hamming-Distanz
- Isoliertheit der Lichtpunkte
- Toroidal eindeutig (TPSM) und symmetrisch
- Möglichst groß und homogen
Die brute force Berechnung solcher PSMs erfordert einen exponentiellen Rechenaufwand, sodass selbst Supercomputer keine zufriedenstellenden Resultate in akzeptabler Zeit erzielen. Durch die kontinuierliche Weiterentwicklung mathematischer und algorithmischer Methoden ist es uns in Kooperation mit der Technischen Hochschule Wildau gelungen, effizientere Verfahren zu entwickeln und diese Herausforderung zu bewältigen.
Auf Clustern von Hochleistungsrechnern berechnen wir damit TPSMs für unsere Kunden, die alle gewünschten Eigenschaften aufweisen. Im Vergleich mit den Produkten von Wettbewerbern ragen unsere Muster heraus und erweisen sich somit als ausgezeichnete Grundlage für effektive und hochwertige DOEs.
Profitieren auch Sie von unseren neuesten Erkenntnissen und unserem Erfahrungsschatz: teilen Sie uns Ihre Anforderungen mit und wir entwickeln Ihr DOE-Muster.
